簡易檢索 / 檢索結果

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    以射頻電漿輔助化學氣相沉積法製備矽晶異質接合相關膜層之研究
    • 化學工程系 /98/ 碩士
    • 研究生: 陳彥瑋 指導教授: 洪儒生
    • 本論文係以射頻電漿輔助化學氣相沉積法,來探討單晶矽異質接合的最佳化程序,包含將本質層非晶矽沉積於n型單晶矽基材,以及沉積p型與n型非晶矽摻雜層。所使用的摻雜源為毒性稀釋之三甲基硼及三丁基磷。 本實驗…
    • 點閱:277下載:1
    • 全文公開日期 2015/07/30 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    低溫鋁擴散於氫化非晶矽層形成p型膜層及氫化氮化矽應用於矽晶片鈍化之研究
    • 化學工程系 /98/ 碩士
    • 研究生: 徐俊硯 指導教授: 洪儒生
    • 本論文第一部分探討金屬鋁層與氫化非晶矽層接合後, 在低溫下鋁擴散進入非晶矽層形成 p 型膜的現象。研究發現, 當擴散溫度 200℃、擴散時間大於 30 分鐘,p 型膜層呈現微 晶化的結構,其導電率可…
    • 點閱:339下載:0
    • 全文公開日期 2015/07/30 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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